近日，在丽水举行的第七届国际先进光刻技术研讨会上，来自国内外相关领域的专家学者、知名企业家齐聚一堂，共话行业发展趋势、前沿成果及创新灵感，为丽水半导体产业迸发新的活力带来全新机遇。

本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所和丽水经济技术开发区管理委员会承办，浙江省国资运营公司下属浙江富浙资本管理有限公司等协办。

当下，集成电路产业已经成为备受关注的战略性产业，在政策和资本的推动下蓬勃发展。基于这个背景，国际先进光刻技术研讨会应运而生，为国内外半导体业界人员提供了一个重要的交流平台。会上，相关知名公司、机构、高校的嘉宾，围绕材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等领域主题，深入交流分享各自的研究成果，共同探讨未来行业发展趋势及面临的挑战。

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